蚀刻残留物清除方法 去除蚀刻工序残留技术【小套】
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1 去除焊垫窗口蚀刻后残留聚合物的方法
2 除去剩余光致抗蚀剂和残留侧壁钝化物的原位后蚀刻方法
3 有助于残留物去除的各向同性电阻器保护蚀刻
4 可去除蚀刻制程后的残留聚合物及降低氧化物损失的方法
5 干式蚀刻器中残留气体的去除装置及去除方法
6 用于去除抗光蚀剂和蚀刻残留物的含有氟化物的酸性组合物
7 可减少金属蚀刻残留物的形成导电结构层的方法
8 用于除去硬化的光致抗蚀剂、蚀刻后残留物和/或底部抗反射涂层的稠密流体组合物
9 CORAL膜片上蚀刻及剥离后残留物的脱除方法
10 去除光刻胶和蚀刻残留物的方法
11 清除蚀刻残留物的组合物及其应用
12 用于除去蚀刻残留物的组合物基材及其应用
13 用于去除灰化和未灰化铝蚀刻后残留物的超临界二氧化碳化学制剂
14 用于从基片上除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物及其应用
15 半导体工艺中后蚀刻残留物的去除
16 一种去除晶片表面上蚀刻残留物的方法
17 从半导体基片上去除光致抗蚀剂、蚀刻和/或灰化残留物、或污染物的方法
18 除去光致抗蚀剂和后蚀刻残留物的气体混合物及其应用
19 用于去除蚀刻后残留物的水溶液
20 消除蚀刻工序残留聚合物的方法
21 一种半导体晶圆蚀刻残留物的清洗方法
22 用于从基片上除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物及其应用
23 蚀刻后聚合物残留除去方法
24 降低蚀刻的多层叠片中的残留物形成
25 从通道上除去光致抗蚀剂和蚀刻残留物的方法
26 用于减少蚀刻残留物的结构
27 消除电容式触摸屏蚀刻残留溶液的方法
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2、资料说明：资料都是国家专利文献原版全文内容，含技术背景/原理、材料配方比例、制作方法、工艺步骤、技术关键、结构设计图（部分设备类有），以及发明人姓名、地址/邮编、申请日期、专利号、权利要求等详细信息。每一项专利文献的内容详略都是不同的，平均每一项4-10页，多的有几十页的。
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