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铜抛光方法生产工艺 铜化学抛光液配方技术(精选)
点击数:398 更新时间:2016/7/30
   资料编号 >> WLG21395(咨询时请提供资料编号)

   TPG001 一种金属铜的抛光液
   TPG002 冷水镀铜焊丝抛光液
   TPG003 紫铜板整平抛光机
   TPG004 铜的化学机械抛光浆料
   TPG005 铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液
   TPG006 化学机械抛光铜表面用的腐蚀延迟抛光浆液
   TPG007 一种铜及铜合金高光亮化学抛光液
   TPG008 一种蓝宝石抛光用铜盘及其修盘方法
   TPG009 一种铜抛光剂及其制备方法
   TPG010 用于抛光铜的组合物和方法
   TPG011 铜锌合金表面的电抛光方法
   TPG012 铜互连工艺中的化学机械抛光方法
   TPG013 黄铜化学抛光液及其配制方法
   TPG014 铜/钌/钽基材的化学机械抛光
   TPG015 铜的化学机械抛光所用的浆料和方法
   TPG016 铜基材料表层的机械化学抛光方法
   TPG017 用于铜的受控抛光的组合物和方法
   TPG018 用于铜基材的化学机械抛光浆料
   TPG019 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料
   TPG020 ULSI铜材料抛光后表面清洗方法
   TPG021 铜钝化化学机械抛光组合物和方法
   TPG022 含铜基底的化学机械抛光方法
   TPG023 一种用于铜制程的化学机械抛光液
   TPG024 铜/钌基板的化学机械抛光
   TPG025 铜制品抛光剂的制造方法
   TPG026 H62黄铜抛光液及其制备方法
   TPG027 铜片衬底的半固着磨粒抛光方法
   TPG028 一种精细导电铜材抛光后清洗方法
   TPG029 一种用于铜的清洁抛光剂
   TPG030 用于结晶器铜管的抛光机-1331001-8778
   TPG031 表面露出铜和硅的晶片的抛光方法
   TPG032 用来化学机械抛光铜的方法
   TPG033 在铜CMP中采用不包含氧化剂的抛光流体的第二步骤抛光方法
   TPG034 包含N-取代的咪唑的抛光组合物和将铜膜抛光的方法
   TPG035 用于抛光铜的CMP浆料组合物和使用其的抛光方法
   TPG036 集成电路铜互连一步化学机械抛光工艺及相应纳米抛光液
TPG037 基于铜互连中以金属钌作为粘附阻挡层的抛光工艺的抛光液
TPG038 抛光包括铜和钨的半导体器件结构中使用的浆液与固定磨料型抛光垫以及抛光方法
TPG039 一种铜或铜合金化学抛光液及其制备方法
TPG040 一种处理铜/铜阻挡层抛光液的废液的方法
TPG041 抛光铜膜后清洁处理半导体衬底的方法和设备
TPG042 降低铜化学机械抛光粗糙度的抛光液
TPG043 铜化学-机械抛光工艺用抛光液
TPG044 一种用于抛光铜的化学机械抛光浆料
TPG045 一种铜抛光的方法
TPG046 铜类电极的表面抛光
TPG047 用于抛光铜基金属的浆
TPG048 铜化学机械抛光方法
TPG049 抛光含铜的图案化晶片
   TPG050 用于铜的低下压力抛光的组合物和方法
TPG051 铜-氧化物大马士革结构的化学机械抛光
TPG052 核/壳型复合纳米磨料铜化学机械抛光液
TPG053 用于化学机械抛光含有钌和铜的衬底的方法
TPG054 铜金属层化学机械抛光后的表面处理方法
TPG055 铜互连工艺中化学机械抛光的返工方法
TPG056 一种建立铜互连化学机械抛光工艺模型的方法
TPG057 含沸石的用于铜的化学机械抛光组合物
TPG058 用于抛光镶嵌结构中的铝/铜及钛的组合物
TPG059 一种集成电路铜布线的无磨粒化学机械抛光液
TPG060 一种用于青铜零件研磨抛光的油膏组合物
TPG061 一种用于钢铁基体化学镀铜的化学抛光液
TPG062 一种镀铜实芯焊丝抛光液及其制备方法
TPG063 一种化学-机械抛光铜镶嵌结构所用的浆料
TPG064 铜和阻障层之整合化学机械抛光的方法和设备
TPG065 用于铜膜平面化的钝化化学机械抛光组合物
TPG066 使用磺化两性试剂的铜化学机械抛光溶液
TPG067 一种抛光硅和铜的化学机械平坦化浆料
TPG068 一种自抛光丙烯酸铜树脂及其合成方法
   TPG069 一种适用于低下压力的集成电路铜抛光液
TPG070 一种适用于低下压力的铜化学机械精抛光液
TPG071 一种用于铜互连的化学机械抛光液及工艺
TPG072 一种丙烯酸铜/锌自抛光防污树脂的合成方法
TPG073 钢、铜工件抛光后中性脱蜡除油剂及生产方法
TPG074 一种真空熔炼速凝炉水冷铜棍自动抛光装置
TPG075 一种环保型铜制品用化学抛光液及其制备方法
TPG076 一种用于版辊铜面抛光机的抽风除尘装置
TPG077 一种适用于低下压力的弱酸性铜抛光液
TPG078 ULSI多层铜布线铜的低下压力化学机械抛光的组合物
TPG079 一种集成电路铜互连结构中铜的电化学机械抛光液
TPG080 碱性抛光液在低压力下提高GLSI铜布线铜膜去除速率的应用
TPG081 制造铜互连的阻挡层抛光的CMP浆料组合物、使用其的抛光方法及通过其制造的半导体器件
TPG082 包含离子型聚电解质的铜化学机械抛光组合物及方法
   TPG083 高去除率、低损伤的铜化学机械抛光液及制备方法
   TPG084 研磨无机氧化物颗粒的浆液以及含铜表面的抛光方法
   TPG085 超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液
   TPG086 用于铜的化学机械抛光(CMP)浆液以及用于集成电路制造的方法
   TPG087 超大规模集成电路铜布线表面低压化学机械抛光方法
   TPG088 ULSI铜表面高精密加工过程中化学机械抛光液的制备方法
   TPG089 超大规模集成电路多层铜布线化学机械抛光后的洁净方法
   TPG090 在化学机械抛光期间调节低k对铜除去速率的方法和浆料
   TPG091 一种铜及合金表面处理用的化学抛光剂及其制备方法
   TPG092 铜纯化的化学机械抛光后清洗组合物及使用方法
   TPG093 一种铜合金护套铁路贯通地线环保型抛光钝化串联生产线
   TPG094 一种用于EBSD测试的冷轧铜镍复合基带的电解抛光方法
   TPG095 一种无应力电化学抛光铜时去除二氧化硅的方法
   TPG096 CMP中碱性抛光液抑制GLSI铜钴阻挡层电偶腐蚀的应用
   TPG097 ULSI多层铜布线化学机械抛光中粗糙度的控制方法
   TPG098 铜及铜合金工件化学抛光工作液及生产方法
   TPG099 一种取代铜酸洗工艺的处理铜及铜合金表面的抛光液
   TPG100 用于铜布线化学机械抛光的清洗液提供装置
   TPG101 抛光混合物和减少硅晶片中的铜混入的方法
   TPG102 铜化学机械抛光的过程控制方法和系统-1331001-8778
   TPG103 用于抛光镶嵌结构中的铝/铜和钛的组合物
   TPG104 固结磨料化学机械抛光铜的加工方法
   TPG105 一种用于铜互连抛光的工艺方法
   TPG106 一种镀锌铜线镀前抛光装置
   TPG107 一种铜及其合金的化学抛光方法
   TPG108 一种铜质乐器零部件表面抛光方法
   TPG109 含铜固结磨料研磨抛光垫
   TPG110 一种原位组合磨粒铜抛光组合物
   TPG111 适用于精细雾化CMP的铜抛光液
   TPG112 一种铜化学机械抛光组合物

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