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氮化硅制作方法 氮化硅陶瓷生产工艺 氮化硅材料加工技术(大套)
点击数:819 更新时间:2011/12/30
   资料编号 >> WLG10168(咨询时请提供资料编号)

   1 01136305.3 纳米级氮化硅复合材料发热体及制作工艺
   2 01141572.X P型信道氮化硅只读存储器的擦除方法
   3 02150906.9 一种纳米级氮化钛-氮化硅复合材料的制备方法
   4 01134769.4 基底/氧化硅/氮化硅/氧化硅/硅组件的制造方法
   5 01134770.8 氮化硅只读存储器组件的制造方法
   6 01134771.6 防止天线效应的氮化硅只读存储器组件的结构
   7 01136188.3 氮化硅只读存储器的结构与制造方法
   8 02158760.4 低压燃烧合成氮化硅或氮化硅铁的方法及设备
   9 01143842.8 利用原子层沉积法形成氮化硅间隙壁的方法
   10 02119316.9 密封氮化硅过滤器的方法和密封组合物
   11 01129597.X 氮化硅只读存储器的制造方法
   12 01120413.3 氮化硅只读存储器的制造方法
   13 02123440.X 等离子体化学气相法批量生产氮化硅粉体转相工艺及系统
   14 01143416.3 氮化硅内存的制造方法
   15 02101551.1 在氮化硅层上形成氮氧化硅层的方法
   16 00805123.2 在栅极蚀刻处理后用湿式化学方法去除氧氮化硅材料
   17 02100195.2 用燃烧合成高α相超细氮化硅粉体及氮化硅晶须的方法
   18 02124784.6 导电性氮化硅复合烧结体及其制备方法
   19 02122345.9 超薄氮化硅/氧化硅栅极介电层的制造方法
   20 02122887.6 氮化硅存储器件及其制造方法
   21 02159060.5 提高硼硅玻璃膜及氮化硅膜之间粘合强度的方法
   22 03123816.5 氮化硅膜、半导体装置及其制造方法
   23 03121837.7 氮化硅膜制作方法及氮化硅膜制作装置
   24 03123582.4 一种用于炼铁高炉的氮化硅刚玉质浇注耐火材料
   25 02116110.0 降低氮化硅的湿蚀刻速率的方法
   26 02118038.5 氮化硅只读存储器的制造方法
   27 02106073.8 利用图案化金属结构增加氮化硅表面粘着度的方法
   28 02105961.6 P型氮化硅只读存储器器件的初始化方法
   29 02153390.3 等离子体化学气相法制备高α相氮化硅粉体的工艺
   30 02107448.8 具有保护二极管的氮化硅只读存储器结构及其操作方法
   31 01812321.X 相对于未掺杂二氧化硅和氮化硅能选择性蚀刻掺杂二氧化硅的蚀刻剂,其使用方法和形成的结构
   32 01814050.5 低介电氮化硅膜及其制造方法和半导体器件及其制造工艺
   33 02801325.5 氮化硅基复合烧结体及其生产方法
   34 95192160.6 具有高疲劳寿命的氮化硅轴承球
   35 95191835.4 氮化硅烧结体及其制造方法
   36 96190008.3 氮化硅电路板
   37 96109404.4 氮化硅的自研磨
   38 96190066.0 高导热性氮化硅烧结体、其制造方法和压接结构体
   39 96121115.6 高热导率氮化硅电路衬底和使用它的半导体器件
   40 96114533.1 氮化硅陶瓷、制备它们的硅基组合物以及它们的制备工艺
   41 96112261.7 氮化硅多孔体及其制造方法
   42 96114418.1 氮化硅陶瓷电路基片及使用该陶瓷基片的半导体器件
   43 97102107.4 高强度氮化硅多孔体及其制造方法
   44 88103481 含硅-氮和硅-硅键的共聚物和热解该共聚物得到的聚碳硅氮烷及该聚碳硅氮烷制备-碳氮化硅的应用
   45 87106528 一种金属与玻璃封接的氮化硅模具和模具的制造方法
   46 87104774.8 氮化硅/氮化硼复合材料及其制造方法
   47 87101293.6 以氮化物作烧结助剂的氮化硅基陶瓷
   48 88105512.3 高致密氮化硅反应烧结体的快速制备方法
   49 89106804.X 氮化硅粉末的制造方法及设备
   50 89108959.4 含氯的硅氮烷聚合物,其制备方法,由其可制备的含氮化硅陶瓷材料及材料的制备
   51 89108980.2 聚氢化氯硅氮烷、其制备方法、由其制备的含氮化硅的陶瓷材料及其制备
   52 89108979.9 多取代含氯硅氮烷聚合物,其制备方法,由此可制得的含氮化硅的陶瓷材料及其制备
   53 89108965.9 聚(1,2-亚乙基桥接氯硅氮烷)、它的制备方法, 由它可制备含氮化烷的陶瓷材料以及含氮化硅的陶瓷材料......
   54 89108960.8 聚氯硅氮烷,其制备方法,由其制备的含氮化硅陶瓷材料及该材料的制备
   55 89108962.4 可烧结陶瓷粉及其制备方法以及用该陶瓷粉制造的氮化硅陶瓷及其制造方法和用途
   56 89106347.1 一种断裂韧性高的自增强氮化硅陶瓷及其制备方法
   57 90109893.0 双管加压制备氮化硅超细粉的方法
   58 90110011.0 晶须增韧补强氮化硅复相陶瓷刀具材料
   59 91100598.6 晶须补强氮化硅复合材料制造方法
   60 90101490.7 低温光化学气相淀积二氧化硅、氮化硅薄膜技术
   61 90104254.4 反应结合氮化硅体浸渍工艺
   62 90105134.9 高性能β-氮化硅晶晶须的制备方法
   63 91101747.X 一种新的激光制氮化硅粉末的方法及装置
   64 90103245.X 氮化硅基复合陶瓷及其活塞顶
   65 91105662.9 一种自增强氮化硅陶瓷体及其制备方法
   66 91101920.0 高断裂韧性自增强氮化硅陶瓷及其制备该陶瓷的方法
   67 91107327.2 碳化硅-氮化硅复相梯度材料的制备
   68 92101117.2 用无压或低压气体烧结法制备的致密自增强氮化硅陶瓷
   69 92101118.0 具有结晶晶界相的自增强氮化硅陶瓷及制备方法
   70 92109187.7 由二氧化硅碳氮共渗制备氮化硅的方法以及无晶须的颗粒氮化硅
   71 93101803.X 碳氮共掺法制备氮化硅的连续工艺和制得的氮化硅
   72 93112546.4 中间包水口用氮化硅结合碳化硅耐火材料
   73 93112548.0 高致密、低气孔率氮化硅-碳化硅-氧化物系统耐火材料
   74 93120036.9 无缺陷氮化硅晶须的制备
   75 93117970.X 氮化硅电热塞中氮化硅与金属的一步活性连接方法
   76 94110355.2 纳米非晶原位合成氮化硅晶须
   77 95103931.8 半石墨化碳氮化硅材料及其生产方法
   78 95118717.1 氮化硅烧结体的制造方法
   79 95100662.2 一种生产高强度氮化硅结合碳化硅制品的方法
   80 95190842.1 氮化硅陶瓷及其成型工艺
   81 97105976.4 纳米碳化硅-氮化硅复相陶瓷及其制备方法
   82 98107059.0 具至少一种氮化硅或氧氮化硅基薄层的透明基体及其制法
   83 99108459.4 使用二(叔丁基氨基)硅烷淀积二氧化硅和氧氮化硅
   84 97119087.9 氮化硅材料固相有机前驱体除氧增强的方法
   85 98123154.3 氮化硅电梯安全制动器
   86 98124902.7 从氧化硅膜选择蚀刻氮化硅膜的方法
   87 97121645.2 一种制造高纯度超细氮化硅的方法及设备
   88 99113534.2 氮化硅发热体及其制造方法
   89 98121726.5 添加氧化镁及稀土氧化物的烧结氮化硅陶瓷
   90 98106228.8 去除氮化硅保护层针孔的方法
   91 99113429.X 氮化硅车用电热杯
   92 99107783.0 一种超高韧性氮化硅基复合材料的制备方法
   93 98117969.X 碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
   94 98117966.5 酸性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
   95 98808408.2 制造氧氮化硅的方法
   96 00116803.7 自蔓延高温合成氮化硅铁粉末的制备方法
   97 99110641.5 金属间介质半导体制造中氟硅玻璃薄膜的氧氮化硅盖层
   98 99109605.3 超细氮化硅微粉气相合成新工艺
   99 00129948.4 碳化硅晶须强韧化氮化硅基陶瓷轧辊材料的制造方法
   100 01113058.X 一种提高氮化硅基陶瓷性能/价格比的方法
   101 99806182.4 氮化硅用作医用生物材料的组合物、生产和应用
   102 01126400.4 自蔓延高温合成制备β-氮化硅晶须的方法
   103 01139801.9 一种氮化硅水基浓悬浮体的制备方法
   104 01137963.4 氮化硅粉、其烧结体、基板、及由此的电路板和热电元件模块
   105 01138794.7 用电子回旋共振微波等离子体制备超薄氮化硅薄膜
   106 02100183.9 一种低压燃烧合成高α相氮化硅粉体的方法
   107 01121735.9 氮化硅陶瓷及其制备工艺
   108 02118173.X 除去氮化硅膜的方法
   109 200680008429.9 具有厚氧化硅和氮化硅钝化层的光电池及其制造方法
   110 200710119615.6 一种制备螺旋状氮化硅陶瓷晶须的方法
   111 200710016229.4 利用溶剂热反应低温合成氮化硅纳米材料的方法
   112 200610062988.X 氮化硅陶瓷发热体的微波炉烧结制备方法及专用设备
   113 200610161406.3 氮化硅点火器
   114 200710156483.4 一种氮化硅彩虹玻璃及其制备方法
   115 200710177460.1 一种方镁石氮化硅复合耐火制品及制备方法
   116 200710193011.6 刚玉-氮化硅-碳化硅复合浇注料
   117 200610129538.8 氮化硅与碳化硅制造热镀锌槽的方法
   118 200610118810.2 测量氧化硅层-氮化硅层-氧化硅层电学厚度的方法
   119 200610156527.9 荧光氮化硅基纳米线及其制备方法
   120 200680014729.8 通过后PECVD沉积UV处理增加氮化硅膜的拉伸应力的方法
   121 200710164825.7 活塞环表面涂覆氮化硅膜层的方法
   122 200710114560.X 自蔓燃无污染快速制备高α相氮化硅粉体的方法
   123 200810073414.1 一种透明β-氮化硅陶瓷及其制备方法
   124 200710144953.5 一种多孔氮化硅陶瓷的制备方法
   125 200710144954.X 一种泡沫氮化硅陶瓷的制备方法
   126 200680025884.X 用于二氧化硅和氮化硅层的可印刷蚀刻介质
   127 200810063927.4 一种氮化硅纳米线和纳米带的制备方法
   128 200810063928.9 一种氮化硅纳米线的制备方法
   129 200680020874.7 氮化硅的化学气相沉积方法
   130 200710063114.0 以聚四氟乙烯为添加剂燃烧合成氮化硅粉体的方法
   131 200710135811.2 控制氮化硅蚀刻槽的装置与方法
   132 200810015133.0 碘辅助低温制备氮化硅纳米材料的方法
   133 200810020345.8 一种氮化硅透波材料的制备方法
   134 200810061233.7 一种碳氮化硅薄膜的制备方法
   135 200680031921.8 碳氮化硅酸盐发光物质
   136 200710113022.9 一种利用硫辅助反应低温制备氮化硅纳米棒的方法
   137 200710053286.X 含有α-氮化硅晶须的氮化硅水基流延浆料及其制备方法
   138 200680014625.7 增加PECVD氮化硅膜层的压缩应力的方法
   139 85100177 高耐磨性高韧性氮化硅基陶瓷刀具材料
   140 85100506 重烧结氮化硅陶瓷制备方法
   141 85100510 含有氧化钇、_氧化镧和氧化铝的氮化硅陶瓷及制造方法
   142 85103011 高韧性氮化硅基陶瓷刀具材料及其制造方法
   143 85104097 氮化硼纤维补强反应烧结氮化硅陶瓷
   144 86100384 氮化硅工程陶瓷烧结新工艺
   145 86100425 无压烧结高韧性氮化硅基陶瓷材料及其制造方法
   146 86104331 制造氮化硅粉末的方法
   147 87102970 通过碳热还原制成的陶瓷用氮化硅粉末及其制造工艺
   148 200410023753.0 一种低温制备氮化硅粉体材料的方法
   149 200410030786.8 铝电解槽侧墙用氮化硅结合碳化硅耐火砖及其制备方法
   150 03146353.3 增进氮化硅只读存储器的存储单元保持力的方法
   151 200410017913.0 以氮化硅镁作为生长助剂燃烧合成制备β-氮化硅棒晶
   152 200410023952.1 氮化硅-氮化硼-二氧化硅陶瓷透波材料及其制备方法
   153 200410037807.9 一种造粒燃烧合成氮化硅的生产方法
   154 200410069964.8 氮化硅质蜂窝式过滤器及其制造方法
   155 200410069982.6 氮化硅质过滤器的制造方法
   156 200410061738.5 氮化硅膜、半导体器件、显示器件及制造氮化硅膜的方法
   157 200410009294.0 胶态成型制备氮化硅耐磨陶瓷的优化设计方法
   158 02823659.9 用化学蒸气沉积技术沉积氮化硅膜和氧氮化硅膜的方法
   159 200410037963.5 高热导率、高强度氮化硅陶瓷制造方法
   160 200410009794.4 用微波技术快速烧结氮化硅结合碳化硅耐火材料的方法
   161 200410043962.1 钎焊氮化硅陶瓷的钎料及以该钎料连接氮化硅陶瓷的方法
   162 200410085537.9 处理包含含氧氮化硅介质层的半导体器件的方法
   163 200410088856.5 高精度热压氮化硅陶瓷球轴承及其制造方法
   164 200410096391.8 用于化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物和方法
   165 200510023368.0 以氮化硅镁为烧结助剂的高热导氮化硅陶瓷的制备方法
   166 200510023369.5 一种高硬度氮化硅陶瓷的低温烧结方法
   167 200410073163.9 一种氮化硅/碳化硅多孔陶瓷的制备方法
   168 200410039170.7 常压燃烧合成氮化硅粉体的方法
   169 200510011255.9 一种氮化硅陶瓷部件的微加工方法
   170 200510052407.X 化学机械抛光氧化硅和氮化硅的组合物与方法
   171 200410014284.6 玻璃包覆热等静压制备高性能氮化硅陶瓷
   172 200410029809.3 控温活化自蔓延燃烧合成α相氮化硅粉体的方法
   173 03819485.6 氮化硅的模型配件和制造这种模型配件的方法
   174 03821675.2 用于电致发光显示器的氧氮化硅钝化的稀土激活硫代铝酸盐磷光体
   175 03822854.8 由热化学气相沉积制造氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的方法
   176 200610024146.5 高强度、低介电常数的二氧化硅结合的氮化硅多孔陶瓷及制备方法
   177 200610024154.X 一种高热导氮化硅陶瓷的制备方法
   178 200610033127.9 一种纳米氮化硅抛光组合物及其制备方法
   179 200610041867.7 一种氮化硅多孔陶瓷及其制备方法
   180 200510097482.8 多阶氮化硅只读记忆胞的程序化方法
   181 200510138148.2 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的多步方法
   182 200610001186.8 具有锗化硅材料和受应力氮化硅层的衬底
   183 200510055457.3 氮化硅薄膜及其制造方法
   184 200410009076.7 控温燃烧合成α相氮化硅粉体的方法
   185 200510066834.3 借由控制膜层生成前驱物来控制所沉积氮化硅膜的性质及均一性的方法
   186 200410042967.2 氮化硅层的形成方法
   187 03825466.2 氮化硅电荷捕获存储器件
   188 200510050000.3 晶界相中添加纳米氮化硅提高钕铁硼工作温度和耐蚀性方法
   189 200510085369.8 一种具有高抗氧化性能的氮化硅陶瓷及其制备方法
   190 200510088470.9 化学机械抛光二氧化硅和氮化硅的组合物和方法
   191 200380107849.9 形成高质量的低温氮化硅层的方法和设备
   192 200380108258.3 形成高质量的低温氮化硅膜的方法和设备
   193 200510019277.X 一种半透明氮化硅陶瓷及其制备方法
   194 03801959.0 包括两个氮化硅蚀刻步骤的填充隔离槽的双后撤方法
   195 200410066298.2 半导体集成电路硅单晶片衬底背面氮化硅层的新腐蚀方法
   196 200410073763.5 蚀刻氮化硅薄膜的设备及方法
   197 200410011800.X 氮化硅膜的沉积制造方法及沉积系统
   198 200480005652.9 利用具有氨的超低压快速热退火调节氧氮化硅的氮分布曲线
   199 200510044249.3 一种氮化硅—碳化钛复合材料的制备方法
   200 200510012774.7 一种珠状碳化硅或氮化硅纳米链的制备方法
   201 200410052139.7 带有氮化硅陶瓷叶轮、导叶的注水泵及其制作方法
   202 200510032438.9 一种氮化硅铁的微波合成方法
   203 200510123878.5 氮化硅锰铁合金
   204 200510086688.0 一种自增韧氮化硅陶瓷导卫辊及其制备方法
   205 200510126334.4 利用流化床技术常压连续合成氮化硅粉末的方法
   206 200510096415.4 一种自增韧氮化硅陶瓷线材精轧辊材料及其制备方法
   207 200610011114.1 一种原位增韧氮化硅基陶瓷及其超快速烧结方法
   208 200610011115.6 一种高性能热处理氮化硅陶瓷及其制备方法
   209 200510116191.9 用于选择性抛光氮化硅层的组合物以及使用该组合物的抛光方法
   210 200510045575.6 一种β-氮化硅粉体材料的一步反应低温制备方法
   211 200510130673.X 一种中空式环状布料燃烧合成均质氮化硅粉体的方法
   212 200510130678.2 一种层状布料燃烧合成均质氮化硅粉体的方法
   213 200510120731.0 采用纳米碳管模板法制备氮化硅纳米丝的方法
   214 200610018178.4 一种磷酸作为添加剂的氮化硅多孔陶瓷材料的制备方法
   215 200510051754.0 氮化硅膜的制造方法
   216 200610025537.9 一种低温化学气相沉积制备氮化硅薄膜的方法
   217 200610066216.3 使用原子层沉积法的氮化硅膜的形成方法
   218 200580000816.3 具有高导热性的氮化硅烧结体及氮化硅结构部件
   219 200480024471.0 氮化硅质烧结体及其制造方法,和使用其的耐熔融金属用构件、耐磨损用构件
   220 200510025454.5 一种氮化硅膜的生长方法
   221 200480027732.4 氮化硅耐磨部件及其制造方法
   222 200610043941.9 氮化硅陶瓷粉末的生产方法
   223 03825798.X 氧化硅和氧氮化硅的低温沉积
   224 200510034046.6 氮化硅发热体以及其无压低温烧结制备方法
   225 200480025836.1 氮化硅结合SiC耐火材料及其制造方法
   226 200480025263.2 形成含氘化氮化硅的材料的方法
   227 200510070892.3 高纯氮化硅超细粉磨技术
   228 200510070891.9 反应烧结氮化硅粉技术
   229 200610017945.X 新型半石墨化碳氮化硅砖及其制造方法
   230 200510078059.3 氮化硅只读存储单元的位的读取方法
   231 200510087160.5 氮化硅膜形成方法及装置
   232 200610088995.7 快速制备高强度氮化硅-氮化硼可加工陶瓷的方法
   233 200510083340.6 制作半导体元件的方法和选择性蚀刻氮化硅层的方法
   234 200480038017.0 形成高质量低温氮化硅层的方法和设备
   235 200510085294.3 基于氮化硅镂空掩模的纳米电极制备方法
   236 200480040845.8 氮化硅的热化学气相沉积
   237 200510041292.4 氮化硅陶瓷细长工件的生产工艺技术
   238 200610087295.6 具有氮化硅-氧化硅介电层的非挥发性记忆元件
   239 200480041206.3 在基片处理过程中选择性蚀刻氮化硅的系统和方法
   240 200580003451.X 应力被调节的单层氮化硅膜及其沉积方法
   241 200610048297.4 一种氮化硅纳米材料的制备方法
   242 200610030049.7 一种氮化硅/氮化钛纳米复合材料的制备方法
   243 200510086488.5 一种超薄氮化硅/二氧化硅叠层栅介质的制备方法
   244 200610128843.5 每单元二位与非门氮化硅陷获存储器
   245 200510107199.9 氮化硅层的制作方法和自对准金属硅化物层的制作方法
   246 200510116578.4 采用PECVD由氨基硅烷制备氮化硅
   247 200610117465.0 高精度圆形长棒氮化硅陶瓷制造方法
   248 200610134117.4 一种热等静压氮化硅全陶瓷电主轴及其制造方法
   249 200510100306.5 交直流两用节能防静电恒温氮化硅电烙铁
   250 200610134118.9 一种无内圈式热等静压氮化硅全陶瓷球轴承及其制造方法
   251 200510113716.3 氮化硅层的制造方法及半导体元件的制造方法
   252 200610037581.1 氮化硅纳米线和纳米带粉体材料的制备方法
   253 200610137101.9 含有氮化硅的耐久性硬质涂层
   254 200610140931.7 用于制备氮化硅间隔物结构的方法
   255 200610125178.4 一种氮化硅非水基流延浆料及其制备方法
   256 200610150781.8 制备氮化硅叠层的方法
   257 200510110236.1 一种去除硅片背面氮化硅的方法
   258 200610149888.0 用于制备受控应力的氮化硅膜的方法
   259 200610022182.8 立方氮化硅材料的冲击波合成方法及合成装置
   260 200610155066.3 流化床直接制取氮化硅的装置及其方法
   261 200580024991.6 具有控制应力的氮化硅膜
   262 200580024380.1 用于制造晶体管的低热预算氮化硅膜及其制备方法
   263 200580027656.1 制备氮化硅膜的方法
   264 200610070747.X 高强度氮化硅多孔陶瓷透波材料及其制备方法
   265 200710014442.1 G3级氮化硅球加工工艺
   266 200710048600.5 含立方氮化硅粉体的陶瓷及其制备方法
   267 200710087292.7 用于氮化硅陶瓷及氮化硅陶瓷基复合材料钎焊的高温钎料
   268 200710057496.6 无氧溶胶-凝胶反应制备致密碳氮化硅陶瓷的方法
   269 200710098996.4 逆反应烧结制备氮化硅碳化硅复合材料的方法
   270 200710057495.1 无氧溶胶-凝胶反应制备多孔碳氮化硅的方法
   271 200710087714.0 用于对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
   272 200580040887.6 用于高的氮化硅对氧化硅去除速率比率的抛光组合物及方法
   273 200710111653.7 一种高强度、高韧性的氮化硅陶瓷液相烧结法
   274 200580040943.6 基于碳化硅与氮化硅粘合剂的烧结耐火砖
   275 200710101779.6 在真空中涂覆氮化硅薄膜的方法
   276 200710109894.8 具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物
   277 200610027447.3 原子层沉积形成氮化硅氧化阻挡层的方法
   278 200610012251.7 化学激励燃烧合成氮化硅/碳化硅复合粉体的方法
   279 200710024563.4 一种改性纳米氮化硅粉体及其制备方法和用途
   280 201010599587.4 一种铜-6.5氮化硅伪合金液的搅拌方法
281 201110027670.9 一种用于晶体硅太阳电池的双层氮化硅薄膜及其制备方法
282 200980133276.4 氮化硅结合SiC耐火材料的制造方法
283 201010617959.1 一种氮化硅材质微粒捕集器的制备方法
284 201110025965.2 一种高含量α晶形氮化硅粉末的生产方法
285 201110025972.2 一种高含量氮化硅粉末的生产方法
286 201110088711.5 一种QTi3.5-5.5氮化硅半固态浆料的机械均匀分散方法
287 201110088760.9 一种QTi3.5-5.5氮化硅半固态浆料中氮化硅颗粒均匀分散方法
288 201110088788.2 一种镍3锆-6.5氮化硅半固态浆料中氮化硅颗粒均匀分散方法
289 201110088815.6 一种锌10铁-5氮化硅半固态浆料的机械均匀分散方法
290 201110088833.4 一种锌10铁-5氮化硅半固态浆料中氮化硅颗粒均匀分散方法
291 201010570483.0 镀氮化硅减反射膜的方法
292 200980141605.X 用于研磨氮化硅的组合物以及使用所述组合物控制选择比的方法
293 201110120112.7 一种气压烧结氮化硅陶瓷的方法
   294 200980142451.6 具有氮化硅电荷陷阱层的非挥发性内存
295 201110072210.8 对包含多晶硅、氧化硅和氮化硅的基片进行抛光的方法
296 201110111342.7 一种双层氮化硅减反膜的制作方法
297 201110072107.3 对包含多晶硅以及氧化硅和氮化硅中的至少一种的基片进行抛光的方法
298 201110072206.1 对包含多晶硅以及氧化硅和氮化硅中的至少一种的基片抛光的方法
299 201110050765.2 一种制备亚微米氮化硅的方法
300 201110133302.2 一种氮化硅表面氢氟酸溶液处理方法
301 201010145012.5 高性能氧化钇氮化硅陶瓷的生产方法
302 201010145017.8 氮化硅中添加氧化铈的陶瓷的生产方法
303 201010146012.7 氮化硅锅炉燃烧器扩流锥的生产工艺
304 201110125888.8 低压预热燃烧合成氮化硅或氮化硅铁的方法
305 201110148586.2 纳米氮化硅粉体填料耐磨聚乙烯塑料及其制备方法
306 201010146272.4 一种平板PECVD氮化硅覆膜系统
307 201110139024.1 一种含硅纳米粒子的氮化硅薄膜制备方法
308 201110182481.9 双层氮化硅减反射膜制备方法
309 201110129169.3 硫代氨基脲辅助低温合成氮化硅微米棒状晶体材料的方法
310 201110213156.4 热加工用氮化硅基金属陶瓷模具材料及其制备方法与应用
311 201110217318.1 一种SONOS结构中氮化硅的生长工艺
312 201110187426.9 带氮化硅介质选择吸收涂层的太阳能集热器芯及制备方法
   313 201010189177.2 高孔隙率磷酸盐结合氮化硅多孔陶瓷的制备方法
314 02232295.7 氮化硅粉体α相转相装置
315 02264298.6 制备纳米氮化硅粉体的气相合成装置
316 94213499.0 制备“无缺陷”氮化硅晶须的装置
317 87206316 氮化硅涂层坩埚
318 89216093.4 氮化硅结合碳化硅材料作侧衬砖的铝电解槽
319 92241456.4 氮化硅陶瓷火焰进气预热装置
320 97226683.6 工字型氮化硅结合碳化硅横梁
321 99225518.X 氮化硅电热水器
322 99209430.5 氮化硅发热装置
323 99209429.1 带消音装置的氮化硅发热装置
324 99236164.8 漏电安全型氮化硅发热体
325 00202295.8 氮化硅电开水炉
326 00202294.X 氮化硅电开水器
   327 200720153991.2 氮化硅陶瓷点火装置
   328 200720091553.8 设有环形应力缝的自结合碳化硅、氮化硅结合碳化硅棚板
   329 200420084694.3 一种用于高纯粉体分级的氮化硅陶瓷分级叶轮
   330 200420054571.5 氮化硅陶瓷导轮
   331 03152915.1 氮化硅和碳化硅一维纳米结构及其制备方法
   332 02128250.1 氮化硅只读存储元件的操作方法
   333 02140799.1 氮化硅只读存储器的制造方法
   334 02802876.7 多孔氮化硅陶瓷及其生产方法
   335 02142892.1 定义氧化硅/氮化硅/氧化硅介电层的方法
   336 02142191.9 降低第二位效应的氮化硅只读存储单元及其制造方法
   337 03137265.1 制造氮化硅只读存储器的方法
   338 02138262.X 制备纳米氮化硅粉体的气相合成装置
   339 02138263.8 制备纳米氮化硅粉体的系统
   340 03149961.9 一种氮化硅燃烧合成过程中增压调控的生产方法
   341 02158676.4 氮化硅只读存储器及其制造方法
   342 02149394.4 制造氮化硅只读存储器的方法
   343 03140810.9 氮化硅只读存储器及其制造方法
   344 03140387.5 一种提高氮化硅陶瓷抗氧化性能的表面改性方法
   345 03130644.6 制造具有氧化硅/氮化硅/氧化硅层的半导体组件的方法
   346 02814985.8 氮化硅耐磨部件及其制造方法
   347 200310113597.2 一种含氮化硅铁的免烘烤铁沟捣打料
   348 200310115047.4 一种含氮化硅铁的Al2</sub>O3</sub>-SiC-C体系无水炮泥
   349 200310108838.4 双终点检测控制STI CMP工艺氮化硅厚度稳定性的方法
   350 200310108840.1 一种控制STI CMP工艺中残余氮化硅厚度稳定性的方法
   351 200310109459.7 解决湿法剥离氮化硅薄膜新的清洗溶液
   352 03131388.4 移除氮化硅层的方法
   353 03131407.4 蚀刻氮化硅薄膜的设备及方法
   354 200410016198.9 自蔓延高温合成氮化硅镁粉体的制备方法
   355 200410016325.5 由硅化镁燃烧合成氮化硅镁粉体的制备方法
   356 200710072312.3 氮化硅基复合材料燃烧合成方法
   357 200710126049.1 通过添加碳降低氮化硅蚀刻速率的方法
   358 200580046197.1 用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质
   359 200710015087.X 氮化硅陶瓷连杆衬套及其制备方法
   360 200710119160.8 高热导率氮化硅陶瓷材料及其制备方法
   361 200710018518.8 电子回旋共振等离子体化学汽相淀积氮化硅薄膜的方法
   362 200610029618.6 去除硅片背面氮化硅膜的方法
   363 200710070442.3 氮化硅涂层钢领及其制备方法
   364 200680006657.2 形成用于CMOS器件的自对准的双氮化硅衬垫的方法
   365 200810017782.4 一种氮化硅多孔陶瓷组方及制备方法
   366 200680032665.4 用来在不存在氮化硅的条件下进行硅的KOH蚀刻的负性光刻胶
   367 200810015630.0 一种低温制备氮化硅粉体材料的方法
   368 200810064326.5 一种氮化硅陶瓷颗粒增强铝基复合材料及其制备方法
   369 200810025357.X 平板氮化硅薄膜PECVD沉积系统
   370 200810064249.3 钎焊氮化硅陶瓷的钎料及钎焊氮化硅陶瓷的方法
   371 200810015862.6 高α-Si3</sub>N4</sub>相氮化硅制备方法
   372 200710306176.X 用来改变氧化硅和氮化硅膜的介电性能的有机硅烷化合物
   373 200710114558.2 自蔓燃合成法制备高β相氮化硅棒状晶须的方法
   374 200680037090.5 掺杂氮化硅薄膜的低温沉积方法及装置
   375 200810014017.7 氮化硅纳米材料的低温固相反应制备
   376 200810108893.6 氮化硅膜、半导体装置及其制造方法
   377 200810099859.7 氮化硅膜的干刻蚀方法
   378 200810116673.8 一种纳米氮化硅陶瓷粉体的制备方法
   379 200810031670.4 一种氮化硅复合陶瓷发热体
   380 200810062734.7 一种适合氮化硅晶须生长的方法
   381 200810150370.8 多孔氮化硅-二氧化硅透波材料的制备方法
   382 200810013195.8 一种氮化硅纳米粉末合成方法
   383 200810197040.4 亚微米级斜方氮化硅镁多晶体陶瓷粉末的制备方法
   384 200810151191.6 氮化硅/氧化硅双层增透保护薄膜的制备方法
   385 200780006548.5 用于抛光氮化硅的组合物及方法
   386 200710046302.2 去除缺陷膜层及形成氧化硅-氮化硅-氧化硅侧墙的方法
   387 200710046213.8 氮化硅薄膜及接触刻蚀停止层的形成方法
   388 200780007656.4 用于溅镀张力氮化硅膜的系统和方法
   389 200710046494.7 制备氮化硅的方法
   390 200710077257.7 制备氮化硅陶瓷发热体的凝胶注模成型工艺方法
   391 200710161802.0 氮化硅间隙填充层及其形成方法
   392 200810012080.7 氮化锆-氮化硅复合粉体的制备方法
   393 200810232098.8 一种基于碳热还原制备无晶界相多孔氮化硅陶瓷的方法
   394 200810232099.2 一种基于渗硅氮化制备无晶界相多孔氮化硅陶瓷的方法
   395 200710180756.9 氮化硅只读存储器及其字线的制造方法
   396 200810224676.3 氮化硅湿法腐蚀方法
   397 200810243657.5 多晶硅太阳能电池铸锭用石英坩埚的氮化硅喷涂方法
   398 200810243655.6 低压下在石英坩埚内壁上喷涂氮化硅涂层的方法及装置
   399 200810209685.5 一种以磷酸盐为烧结助剂的氮化硅基复合陶瓷及制备方法
   400 200710170549.5 根据氮化硅薄膜应力校准薄膜沉积机台中机械手位置的方法
   401 200810249513.0 自蔓燃制备低氧含量高α-相氮化硅粉体的方法
   402 200710171575.X 可减小金属前介质层中空洞形成概率的氮化硅制作方法
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   404 200710114842.X 一种采用氮化硅(Si3</sub>N4</sub>)和掺磷氧化硅(PSG)复合薄......
   405 200780019791.0 等离子体CVD方法、氮化硅膜的形成方法和半导体装置的制造方法
   406 200780019181.0 等离子体CVD方法、氮化硅膜的形成方法、半导体装置的制造方法和等离子体CVD装置
   407 200710199220.1 纳米氮化硅/环氧基硅烷/氰酸酯树脂复合材料及其制备方法
   408 200710199221.6 纳米氮化硅/双马来酰亚胺树脂/氰酸酯树脂复合材料及其制备方法
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   410 200710304869.5 一种生产氮化硅系合金的新方法
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   413 200910014460.9 氮化硅基纳米复合梯度功能陶瓷刀具材料及其制备方法
   414 200780026767.X 用于抛光氮化硅材料的组合物及方法
   415 200910014462.8 原位生长碳氮化钛系晶须增韧氮化硅基陶瓷刀具材料粉末及其制备工艺
   416 200810033052.3 一种可降低漏电流的氮化硅制作方法
   417 200780017771.X 利用原位氮等离子体处理及非原位紫外光固化来增加氮化硅拉伸应力的方法
   418 200780029146.7 氮化硅酸盐类荧光材料和具有这类荧光材料的光源
   419 200680055457.6 一种用自对准氮化硅掩膜形成浅沟槽隔离的方法
   420 200680055512.1 一种用于铜工艺无边导通孔的自对准氮化硅覆层方法
   421 200910021515.9 一种利用凝胶注模法制备氮化硅多孔陶瓷的方法
   422 200910096750.2 提高太阳电池用非晶氢化碳氮化硅薄膜钝化性能的热处理方法
   423 200910064570.6 一种氮化硅锰合金的生产方法
   424 200910077286.2 一种高致密长寿命的氮化硅陶瓷材料
   425 200910077287.7 一种高可靠性大尺寸氮化硅陶瓷材料的制备方法
   426 200910138223.3 一种钛酸铝-氮化硅复合材料及其反应合成制备方法
   427 200910138224.8 一种氮化烧结钛酸铝-氮化硅复合材料及其制备方法
   428 200910022262.7 一种生产塞隆/氮化硅复相结合碳化硅制品的方法
   429 200910138225.2 一种反应烧结钛酸铝-氮化硅复合材料及其制备方法
   430 200910082049.5 高纯度高密度单晶氮化硅纳米阵列的制备方法
   431 200910015236.1 氮化硅陶瓷的制备方法
   432 200910015257.3 一种氮化硼晶须/氮化硅陶瓷复合材料及其制备方法
   433 200810023748.8 带熄火保护功能的氮化硅点火器
   434 200910015758.1 氮化硼纳米管增强的氮化硅陶瓷及其制备方法
   435 200910066831.8 氮化硅纳米梳及其制备方法
   436 200910071698.5 多孔氮化硅/氧氮化硅陶瓷复合材料的近净尺寸制备方法
   437 200910141773.0 形成高质量的低温氮化硅层的方法和设备
   438 200810131133.7 形成氮化硅层于栅极氧化物膜上的制备方法
   439 200810105905.X 氮化硅薄膜及MIM电容的形成方法
   440 200680010740.7 低温制作高应变等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜的方法
   441 200880002544.4 用于半导体器件的多层氮化硅沉积
   442 200810037676.2 去除氮化硅薄膜的干法蚀刻方法
   443 200810016713.1 氮化硅多孔陶瓷的制备方法
   444 200810067548.2 一种氮化硅陶瓷的制备方法及由该方法制备的氮化硅陶瓷
   445 200910047833.2 高强度氮化硅结合碳化硅材料及其制备方法
   446 200810159024.6 氧化锆增强氮化硅/石英基陶瓷复合材料及其制备方法
   447 200810113999.5 等离子体处理腔室中原位紫外线处理方法及应力氮化硅膜的形成方法
   448 200780047049.0 氮化硅体及其制造方法
   449 200910142568.6 形成高质量的低温氮化硅膜的方法和设备
   450 200910089460.5 高纯高产率网络状分枝氮化硅单晶纳米结构的制备方法
   451 200910055161.X 采用玻璃包封热等静压工艺制备氮化硅陶瓷球的方法
   452 200910054967.7 一种铝掺杂α相氮化硅(α-Si3</sub>N4</sub>)基材料及其制备方法
   453 200810140437.X 一种炼钢用氮化硅锰合金及其制备方法
   454 200880008152.9 氮化硅烧结体及使用其的滑动部件
   455 200880009852.X 氮化硅膜和非易失性半导体存储器件
   456 200880010178.7 氮化硅膜的形成方法、非易失性半导体存储装置的制造方法、非易失性半导体存储装置和等离子体处理装置
   457 200910306393.8 一种氧氮化硅结合碳化硅高温陶瓷材料及其制备方法
   458 200880012312.7 用于无氮化硅的硅湿蚀刻的耐碱性负性光刻胶
   459 200910044400.1 一种氮化硅烧结体添加剂
   460 200910114342.5 一种高硬度半透明氮化硅陶瓷的低温烧结方法
   461 200810222175.1 一种在氮化硅沉积工艺中去除氯化铵结晶的方法
   462 200910057131.2 SONOS器件的氮化硅陷阱层橄榄形能带间隙结构及制造方法
   463 201010226394.4 氮化硼纳米管强韧化氮化硅陶瓷材料及其制备方法
   464 201010237724.X 硼化钛/氮化硅纳米多层涂层及其制备方法
   465 200880114683.6 长寿命可消耗氮化硅-二氧化硅等离子处理部件
   466 200910084987.9 一种在瓦楞辊表面注渗氮化硅特种陶瓷的方法
   467 201010236150.4 一种氮化硅烧成炉
   468 201010271031.2 氮化硅涂层石英坩埚的制备方法
   469 201010230573.5 一种制备碳化硅颗粒增强氮化硅复相陶瓷零件的方法
   470 201010271873.8 氮化硅材料及其制备方法和氮化硅发热器件及其制备方法
   471 200910024145.4 表面致密多孔氮化硅陶瓷透波材料的制备方法
   472 200910197118.7 共享字线的基于氮化硅浮栅的分栅式闪存
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   571 200920113315.1 氮化硅即热式电热水器
   572 200920069386.6 用于制作碳氮化硅点火器的专用模具
   573 200920012728.0 一种全自动大型平板PECVD氮化硅覆膜制备系统
   574 200920068700.9 氮化硅陶瓷整体坩埚
   575 200920069946.8 氮化硅发热体
   576 201020100387.5 一种大型氮化硅陶瓷球轴承
   577 201020121873.5 氮化硅表壳
   578 201020158421.4 一种平板PECVD氮化硅覆膜系统
   579 201020179326.2 一种平板PECVD氮化硅覆膜系统
   580 201020162299.8 氮化硅生坯球径向压制模具装置
   581 201020171212.3 氮化硅收集平台
   582 200920195179.5 一种氮化硅电热元件
   583 200920069387.0 碳氮化硅点火器
   584 200920256013.X 多晶硅太阳能电池铸锭用氮化硅坩埚
   585 200920256012.5 太阳能电池用氮化硅坩埚
   586 201020300925.5 一种氮化硅陶瓷基钨钼丝发热体
   587 200920352821.6 氮化硅结合碳化硅侧块砖
   588 201020179328.1 一种平板PECVD氮化硅覆膜的系统
   589 201020174029.9 一种分离石英坩埚片和氮化硅的装置
   590 201020270394.X 一种氮化硅烧成炉
   591 201020588987.0 氮化硅鄂板破碎机
   592 201020588694.2 氮化硅陶瓷对辊机
   593 201020588693.8 氮化硅球磨机
   594 201020546218.4 壁挂式氮化硅智能电锅炉
   595 201020546235.8 落地式氮化硅智能电锅炉
   596 201020546255.5 落地式氮化硅智能电锅炉
   597 201020597922.2 氮化硅发热装置
   598 201120157618.0 硅导氮化硅速热式热水器
   599 201120157638.8 硅导氮化硅暖风热水器
   600 201120126238.0 一种氮化硅喷qiang

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